真空鍍膜的光密度檢測法

真空鍍膜是在真空條件下，對光學零件鍍膜的工藝過程，一種產(chǎn)生薄膜材料的技術。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產(chǎn)激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。真空鍍鋁膜的生產(chǎn)過程中可以使用光密度在線檢測儀、真空鍍膜在線測試儀來進行品質(zhì)監(jiān)控。

光密度檢測儀也叫光密度計，檢測的原理有四種測定方式：
1：測量薄層斑點透射光強度的透射法，適用于可見光區(qū)，其主要缺點是吸著劑和玻璃板本身會有吸收，而且薄層厚度不均勻會引起基線不穩(wěn)，對測量的準確度有影響；
2：測量薄層斑點反射光強度的反射法，適用于紫外-可見光區(qū)，要求薄層表面十分平整；
3：同時測定透射光和反射光的透射-反射法，記錄兩種光信號值之和，這種方式較理想，基線平穩(wěn)，測量誤差小，靈敏度高；
4：如果化合物本身有熒光或經(jīng)過適當處理后生成熒光化合物者也可用熒光測定法。
真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。
真空鍍膜光密度測試范圍就是線性范圍，光密度值在這個范圍內(nèi)與待測試液的濃度成線性關系。由于真空鍍膜的厚度非常薄，所以必須通過光學性質(zhì)來檢測其鍍膜厚度的均勻性。光密度在線檢測儀就是專門為真空鍍鋁膜而設計生產(chǎn)的。?